一种用于CVD涂层设备的铝反应器
授权
摘要
本实用新型涉及金属切削刀具和工模具涂层技术领域，且公开了一种用于CVD涂层设备的铝反应器，包括筒体，所述筒体的外侧固定安装有铝反应器固定板，铝反应器的上盖因为需要频繁拆卸添加铝颗粒，采用锁紧卡箍的方式锁紧，既能保证密封性，又能快速拆卸和安装，上盖上安装有吊环和把手，便于搬运整个铝反应器和拆卸移动上盖，上盖法兰处安装有散热片，可以一定程度上降低上盖法兰O型圈沟槽处的温度，延长了上盖法兰O型圈的使用寿命，降低了成本，同时散热片还可起到挡住筒体加热圈的作用，不让筒体加热圈滑落，出气孔板采用螺丝固定的方式固定，方便拆卸进行清洗维护，进气孔板采用卡扣方式固定，位置不会偏移，同时方便拆卸。
基本信息
专利标题 ：
一种用于CVD涂层设备的铝反应器
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202022223966.5
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-09-30
授权号 ：
CN212293739U
授权日 ：
2021-01-05
发明人 ：
王彤
申请人 ：
常州艾恩希纳米镀膜科技有限公司
申请人地址 ：
江苏省常州市武进国家高新技术产业开发区凤翔路16号
代理机构 ：
上海思牛达专利代理事务所(特殊普通合伙)
代理人 ：
雍常明
优先权 ：
CN202022223966.5
主分类号 ：
C23C16/44
IPC分类号 ：
C23C16/44 C23C16/52 C23C16/448 C23C16/06
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16/00
通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积工艺
C23C16/44
以镀覆方法为特征的
法律状态
2021-01-05 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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