一种真空镀膜自动上件装置
授权
摘要
本实用新型公开了一种真空镀膜自动上件装置，涉及一种自动上件装置。包括工作平台，工作平台上设置有滑台，滑台由驱动机构驱动其左右移动，滑台两端对称固定安装有夹具定位装置A和夹具定位装置B，夹具定位装置A与夹具定位装置B上安装有真空镀膜夹具，真空镀膜夹具以一中心轴杆为中心，通过连接杆连接多个周边轴杆形成横截面为正多边形的结构，且每个周边轴杆上间隔均匀焊接有夹子，真空镀膜夹具一侧的工作平台上固定安装有上夹装置，上夹装置将产品送入真空镀膜夹具的夹子中。本实用新型完全采用机器替代人工进行上件过程，极大的减轻了工人的作业强度，大大提升产品上夹的效率，缩短了产品在真空镀膜工艺的生产周期，提高了企业的生产效率和效益。
基本信息
专利标题 ：
一种真空镀膜自动上件装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202022242165.3
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-10-10
授权号 ：
CN214032677U
授权日 ：
2021-08-24
发明人 ：
颜志鸿周伟唐志军贺万鹏
申请人 ：
万达工业(始兴)有限公司
申请人地址 ：
广东省韶关市始兴县万达工业园
代理机构 ：
广州赤信知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人 ：
龚素琴
优先权 ：
CN202022242165.3
主分类号 ：
C23C14/50
IPC分类号 ：
C23C14/50
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/22
以镀覆工艺为特征的
C23C14/50
基座
法律状态
2021-08-24 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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