本实用新型涉及反应设备技术领域，尤其是一种含铜氢氧化镍处理用反应釜，包括反应釜本体，上盖的上端连接有固定架，固定架的上端连接有搅拌机构，搅拌机构贯穿固定架，搅拌机构的底端延伸至反应釜本体内，搅拌机构的底端两侧均连接有固定杆，每个固定杆的一端均连接有刮板，每个刮板均与反应釜本体相配合，每个刮板的两侧均连接有凸起，每个凸起上均开设有若干个第二通孔，每个凸起的底端均开设有凹槽，每个凹槽均连通第二通孔。本实用新型通过刮板在转动过程中，第一通孔减小刮板所受到的阻力，同时水流进入第二通孔从凹槽处释放，对刮板底端边缘进行冲击，使得沉淀不会粘结在刮板上。