气体输运系统及具有其的MOCVD设备
授权
摘要
本实用新型提供一种气体输运系统及具有其的MOCVD设备，气体输运系统包括MO源容器、水浴加热槽、载气进气管和气源系统，MO源容器设于水浴加热槽中，其顶端设有进气端和出气端，载气进气管和气源系统相连，气体输运系统还包括设于水浴加热槽内的进气加热管，进气加热管为多段折弯结构，其两端分别与载气进气管以及进气端相连，通过在载气进气管和MO源容器之间设置一位于水浴加热槽内的进气加热管，使得载气再进入MO源容器之前，先对其进行加热，以避免车间环境温度对载气温度的影响，从而使从MO源出气端流出的载气所带出的Mo源量更加稳定精确。并且，多次折弯结构的进气加热管长度更长，使载气能在其内流动更长时间，从而确保载气够精确被加热至所需温度。
基本信息
专利标题 ：
气体输运系统及具有其的MOCVD设备
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202022265463.4
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-10-12
授权号 ：
CN212316242U
授权日 ：
2021-01-08
发明人 ：
不公告发明人
申请人 ：
聚灿光电科技（宿迁）有限公司
申请人地址 ：
江苏省宿迁市经济技术开发区东吴路南侧
代理机构 ：
苏州威世朋知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人 ：
沈晓敏
优先权 ：
CN202022265463.4
主分类号 ：
C23C16/455
IPC分类号 ：
C23C16/455 C23C16/18
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16/00
通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积工艺
C23C16/44
以镀覆方法为特征的
C23C16/455
向反应室输入气体或在反应室中改性气流的方法
法律状态
2021-01-08 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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