一种用于CVD涂层设备的气体质量流量计校准系统
授权
摘要

本实用新型涉及金属切削刀具和工模具涂层技术领域,且公开了一种用于CVD涂层设备的气体质量流量计校准系统,包括第一气体支路与第二气体支路,所述第一气体支路的内部包含有第一气体浮子流量计、第一气体质量流量计与第一气动波纹阀,所述第二气体支路的内部包含有第二气体浮子流量计、第二气体质量流量计与第二气动波纹阀,所述第一气动波纹阀的底部固定连接有气体汇流排,可以不用依靠与气体浮子流量计的对比,来判断气体质量流量计准确度,还可以在CVD设备未生产的任何时间,对所有的气体质量流量计主动进行流量校准,可主动排查是否有质量流量计的流量有偏差,方便及时,减少生产浪费和产品的故障率。

基本信息
专利标题 :
一种用于CVD涂层设备的气体质量流量计校准系统
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN202022280377.0
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2020-10-13
授权号 :
CN212513240U
授权日 :
2021-02-09
发明人 :
王彤
申请人 :
常州艾恩希纳米镀膜科技有限公司
申请人地址 :
江苏省常州市武进国家高新技术产业开发区凤翔路16号
代理机构 :
上海思牛达专利代理事务所(特殊普通合伙)
代理人 :
丁剑
优先权 :
CN202022280377.0
主分类号 :
G01F25/00
IPC分类号 :
G01F25/00  
IPC结构图谱
G
G部——物理
G01
测量;测试
G01F
容积、流量、质量流量或液位的测量;按容积进行测量
G01F25/00
用于测量容量、流量、液面或借助容积进行计量的仪表设备的检定或校正
法律状态
2021-02-09 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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