一种用于毒剂气体侦检传感器的气室
授权
摘要

本实用新型涉及传感器检测设备领域,尤其涉及一种用于毒剂气体侦检传感器的气室。本实用新型提供了一种用于毒剂气体侦检传感器的气室,包括:腔体,所述腔体包括进气口、第一出气口、第二出气口;第一过滤膜,所述第一过滤膜设置在所述第一出气口;所述第一过滤膜用于过滤出空气小分子,截流毒剂气体大分子;第三过滤膜,所述第三过滤膜涂有疏水性材料。所述第一过滤膜对待测气体中的大分子毒剂气体进行提纯浓缩,减少气体总体积,延长气敏元件的使用寿命;所述第三过滤膜能减少气敏元件吸附水蒸气造成的检测偏差,提高气敏元件检测的准确度,并减少水蒸气对气敏元件的锈蚀,提高气敏元件的使用寿命。

基本信息
专利标题 :
一种用于毒剂气体侦检传感器的气室
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN202022394175.9
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2020-10-24
授权号 :
CN213456848U
授权日 :
2021-06-15
发明人 :
蒋华宁王怀璋梁婷陈静飞周蔷陈怡宏
申请人 :
中国人民解放军陆军防化学院
申请人地址 :
北京市昌平区阳坊镇中心北街1号
代理机构 :
北京沁优知识产权代理有限公司
代理人 :
王丽君
优先权 :
CN202022394175.9
主分类号 :
G01N33/00
IPC分类号 :
G01N33/00  B01D46/54  
IPC结构图谱
G
G部——物理
G01
测量;测试
G01N
借助于测定材料的化学或物理性质来测试或分析材料
G01N33/00
利用不包括在G01N1/00至G01N31/00组中的特殊方法来研究或分析材料
法律状态
2021-06-15 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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