一种用于毒剂气体侦检传感器的气室
授权
摘要
本实用新型涉及传感器检测设备领域，尤其涉及一种用于毒剂气体侦检传感器的气室。本实用新型提供了一种用于毒剂气体侦检传感器的气室，包括：腔体，所述腔体包括进气口、第一出气口、第二出气口；第一过滤膜，所述第一过滤膜设置在所述第一出气口；所述第一过滤膜用于过滤出空气小分子，截流毒剂气体大分子；第三过滤膜，所述第三过滤膜涂有疏水性材料。所述第一过滤膜对待测气体中的大分子毒剂气体进行提纯浓缩，减少气体总体积，延长气敏元件的使用寿命；所述第三过滤膜能减少气敏元件吸附水蒸气造成的检测偏差，提高气敏元件检测的准确度，并减少水蒸气对气敏元件的锈蚀，提高气敏元件的使用寿命。
基本信息
专利标题 ：
一种用于毒剂气体侦检传感器的气室
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202022394175.9
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-10-24
授权号 ：
CN213456848U
授权日 ：
2021-06-15
发明人 ：
蒋华宁王怀璋梁婷陈静飞周蔷陈怡宏
申请人 ：
中国人民解放军陆军防化学院
申请人地址 ：
北京市昌平区阳坊镇中心北街1号
代理机构 ：
北京沁优知识产权代理有限公司
代理人 ：
王丽君
优先权 ：
CN202022394175.9
主分类号 ：
G01N33/00
IPC分类号 ：
G01N33/00 B01D46/54
IPC结构图谱
G
G部——物理
G01
测量；测试
G01N
借助于测定材料的化学或物理性质来测试或分析材料
G01N33/00
利用不包括在G01N1/00至G01N31/00组中的特殊方法来研究或分析材料
法律状态
2021-06-15 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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