用于一侧具有紧邻构筑的建筑物的基坑支护系统
授权
摘要

本实用新型提供一种用于一侧具有紧邻构筑的建筑物的基坑支护系统,基坑位于建筑物室外四周;环形排水沟设于所述基坑内且位于建筑物室外四周;多个集水坑设于所述基坑内,与所述环形排水沟连通;多个支护桩沿所述环形排水沟外侧呈排状布置且伸入基坑底部,且与建筑物紧邻端对应设置,所述支护桩的顶部位于所述环形排水沟上方,多个所述支护桩顶部通过冠梁连接;位于所述支护桩外部的基坑呈放坡式设置,位于与所述建筑物开放端相对的所述环形排水沟外部的基坑呈放坡式设置均形成边坡。本实用新型提出的技术方案的有益效果是:简单实用,过程控制简单,工程耗时短,可以很好的保证建筑物紧邻端侧边的土壤稳定,强度高、防水能力强。

基本信息
专利标题 :
用于一侧具有紧邻构筑的建筑物的基坑支护系统
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN202022407171.X
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2020-10-23
授权号 :
CN213709561U
授权日 :
2021-07-16
发明人 :
邵界立邵东杰李彦琦
申请人 :
武汉地大建筑设计有限公司
申请人地址 :
湖北省武汉市武汉东湖新技术开发区珞喻路吴家湾湖北信息产业科技大厦1102
代理机构 :
武汉知产时代知识产权代理有限公司
代理人 :
马帅
优先权 :
CN202022407171.X
主分类号 :
E02D17/04
IPC分类号 :
E02D17/04  E03F3/04  E03F5/10  E02D19/00  E02D5/34  
IPC结构图谱
E
E部——固定建筑物
E02
水利工程;基础;疏浚
E02D
基础;挖方;填方;地下或水下结构物
E02D17/00
挖方;挖方边缘的修砌;填方
E02D17/02
基础坑
E02D17/04
基础坑边缘的修砌或加固
法律状态
2021-07-16 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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