一种液态源扩散装置
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摘要
本实用新型属于电池制造技术领域，公开了一种液态源扩散装置，包括装有液态源的源瓶；进气管路向源瓶内输送气体；防回流装置包括设置在进气管路上的腔室，腔室的底部位于液态源的上方，支架固设于腔室中且设有固定部，气体及液态源能够通过支架，堵头设于腔室中且位于支架的上方，堵头能在液态源的浮力和流动压力作用下沿固定部在轴向上移动，以使堵头封堵上开口；出气管的下端插入源瓶中且下端口位于液态源的上方。当出气管的压力大于进气管路的压力时，液态源的浮力和流动压力使堵头及时地堵住腔室的上开口，避免液态源进入进气管路对进气管路及电子器件造成损伤。该液态源扩散装置能够防止液态源回流，装置结构简单，便于制造且制造成本低。
基本信息
专利标题 ：
一种液态源扩散装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202022417673.0
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-10-27
授权号 ：
CN213570826U
授权日 ：
2021-06-29
发明人 ：
王英杰何悦宋飞飞
申请人 ：
横店集团东磁股份有限公司
申请人地址 ：
浙江省金华市东阳市横店镇工业区
代理机构 ：
北京品源专利代理有限公司
代理人 ：
胡彬
优先权 ：
CN202022417673.0
主分类号 ：
C30B31/16
IPC分类号 ：
C30B31/16 H01L31/18
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C30
晶体生长
C30B
单晶生长；共晶材料的定向凝固或共析材料的定向分层；材料的区熔精炼；具有一定结构的均匀多晶材料的制备；单晶或具有一定结构的均匀多晶材料；单晶或具有一定结构的均匀多晶材料之后处理；其所用的装置
C30B31/00
单晶或具有一定结构的均匀多晶材料之扩散或掺杂工艺；其所用装置
C30B31/06
同气态扩散材料接触的
C30B31/16
气体供给或排出的装置；气流的变换
法律状态
2021-06-29 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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