一种可耐受双85试验的反射型偏光片结构
授权
摘要
本实用新型公开了一种可耐受双85试验的反射型偏光片结构，包括离型膜层、压敏胶层、原偏光片层、复合胶层、防渗透层及铝蒸镀膜层，所述离型膜层的下表面通过压敏胶层与原偏光片层的上表面粘接，原偏光片层的下表面通过复合胶层与防渗透层的上表面粘接，防渗透层的下表面设有铝蒸镀膜层，且所述防渗透层采用疏水性涂料涂布而成，所述铝蒸镀膜层的厚度为0.4～0.7μm。本实用新型的铝蒸镀膜层光反射率高，可将外界光反射回来作为LCD的显示光源，有效增强LCD的显示亮度；防渗透层采用疏水性涂料涂布而成，有效阻隔水汽渗透到铝蒸镀膜层中，增强反射型偏光片的耐湿耐热性，在温度85℃、相对湿度85％的双85试验中也可持续耐受。
基本信息
专利标题 ：
一种可耐受双85试验的反射型偏光片结构
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202022420072.5
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-10-27
授权号 ：
CN213338091U
授权日 ：
2021-06-01
发明人 ：
卢鹏飞
申请人 ：
深圳市名格宝丽材料科技有限公司
申请人地址 ：
广东省深圳市光明新区公明街道将石社区南环大道西50号（利豪-永达科技园）厂房第E2栋1、2、3楼
代理机构 ：
河源市华标知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人 ：
郝红建
优先权 ：
CN202022420072.5
主分类号 ：
G02B5/30
IPC分类号 ：
G02B5/30
IPC结构图谱
G
G部——物理
G02
光学
G02B
光学元件、系统或仪器附注
G02B5/00
除透镜外的光学元件
G02B5/30
偏振元件
法律状态
2021-06-01 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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