一种金刚石涂层预处理装置及金刚石涂层系统
授权
摘要
本实用新型涉及金刚石涂层技术领域，尤其涉及一种金刚石涂层预处理装置及金刚石涂层系统，金刚石涂层预处理装置包括送气组件；等离子发射器包括阳极板和阴极板，阴极板和阳极板之间形成有极板腔道，极板腔道的进口与送气组件的出气口连通，等离子发射器用于将极板腔道内的离子源气体电离形成等离子体；第一连通通道与极板腔道的出口连通；金刚石喷射组件，金刚石喷射组件的出口通过第一开关阀选择性地与第一连通通道连通或断开。本实用新型利用等离子体对基材进行清洗和脱钴，并通过设置金刚石喷射组件，对基材进行植晶，极大程度地节省了预处理的时间，并且提高了金刚石涂层生长的结合力。
基本信息
专利标题 ：
一种金刚石涂层预处理装置及金刚石涂层系统
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202022533543.3
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-11-05
授权号 ：
CN214458303U
授权日 ：
2021-10-22
发明人 ：
曹时义周敏王俊锋
申请人 ：
广东鼎泰高科技术股份有限公司
申请人地址 ：
广东省东莞市厚街镇赤岭村工业区一横南路12号
代理机构 ：
北京品源专利代理有限公司
代理人 ：
胡彬
优先权 ：
CN202022533543.3
主分类号 ：
C23C16/02
IPC分类号 ：
C23C16/02 C23C16/27
相关图片
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16/00
通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积工艺
C23C16/02
待镀材料的预处理
法律状态
2021-10-22 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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