用于高温合成单原子分散体和多原子分散体的系统和方法
公开
摘要
公开了单原子分散体和多原子分散体，以及用于合成原子分散体的系统和方法。合成原子分散体的示例性方法包括：布置加载基底，该加载基底包括加载有元素的前体或元素的团簇中的至少一种的基底，向加载基底施加一个或多个温度脉冲，其中一个或多个温度脉冲中的脉冲在持续时间内施加目标温度，在脉冲之后保持冷却周期，并且在一个或多个温度脉冲之后提供分散在基底上的元素的单原子。脉冲施加的目标温度在500K和4000K之间并包括端值，且持续时间在1毫秒和1分钟之间并包括端值。
基本信息
专利标题 ：
用于高温合成单原子分散体和多原子分散体的系统和方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114502276A
申请号 ：
CN202080055909.0
公开（公告）日 ：
2022-05-13
申请日 ：
2020-06-14
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
胡良兵姚永刚
申请人 ：
马里兰大学帕克分校
申请人地址 ：
美国马里兰州
代理机构 ：
广州川墨知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人 ：
王丙强
优先权 ：
CN202080055909.0
主分类号 ：
B01J23/42
IPC分类号 ：
B01J23/42 B01J23/644 B01J23/75 B01J23/89 B01J37/08
IPC结构图谱
B
B部——作业；运输
B01
一般的物理或化学的方法或装置
B01J
化学或物理方法，例如，催化作用或胶体化学；其有关设备
B01J23/00
不包含在B01J21/00组中的，包含金属或金属氧化物或氢氧化物的催化剂
B01J23/38
贵金属的
B01J23/40
铂系金属的
B01J23/42
铂
法律状态
2022-05-13 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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