超声换能器制造方法
实质审查的生效
摘要
本公开涉及一种从同一基底(101)同时制造至少一个具有第一谐振频率的第一CMUT换能器(I)和至少一个具有不同于第一频率的第二谐振频率的第二CMUT换能器(II)的方法，该方法包括以下步骤：a)对于每个换能器(I，II)，在基底的上表面侧形成空腔(103)，并形成悬挂在空腔(103)上方的柔性膜(105)；b)形成第一层(109)，该第一层(109)仅在第一换能器(I)的膜(105)的上表面的一部分上延伸，而不在第二换能器(II)的膜(105)上延伸；以及c)形成第二层(111)，该第二层(111)在第一换能器的膜(105)的整个上表面和第二换能器的膜的整个上表面上延伸。
基本信息
专利标题 ：
超声换能器制造方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114269684A
申请号 ：
CN202080058716.0
公开（公告）日 ：
2022-04-01
申请日 ：
2020-08-14
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
尼古拉斯·塞内贡德多米尼克·格罗斯西里尔·梅尼埃
申请人 ：
维蒙股份公司
申请人地址 ：
法国图尔市
代理机构 ：
北京品源专利代理有限公司
代理人 ：
谭营营
优先权 ：
CN202080058716.0
主分类号 ：
B81C1/00
IPC分类号 ：
B81C1/00 B06B1/06
IPC结构图谱
B
B部——作业；运输
B81
微观结构技术
B81C
专门适用于制造或处理微观结构的装置或系统的方法或设备
B81C1/00
在基片内或其上制造或处理的装置或系统
法律状态
2022-04-19 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : B81C 1/00
申请日 : 20200814
申请日 : 20200814
2022-04-01 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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