电磁场控制用构件
实质审查的生效
摘要
电磁场控制用构件具备：第1绝缘构件，包含筒状的陶瓷，具有沿着轴向延伸的多个贯通孔；导通构件，包含金属，堵塞贯通孔以使得具有在第1绝缘构件的外周开口的开口部；供电端子，与该导通构件连接；和凸缘，位于第1绝缘构件的两端，在第1绝缘构件的外周侧配置包含筒状的陶瓷的第2绝缘构件，该第2绝缘构件的两端被气密地固定于凸缘。
基本信息
专利标题 ：
电磁场控制用构件
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114342004A
申请号 ：
CN202080059832.4
公开（公告）日 ：
2022-04-12
申请日 ：
2020-08-28
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
横山笃志
申请人 ：
京瓷株式会社
申请人地址 ：
日本京都府
代理机构 ：
中科专利商标代理有限责任公司
代理人 ：
王晖
优先权 ：
CN202080059832.4
主分类号 ：
G21K1/093
IPC分类号 ：
G21K1/093 H05H7/04 H05H7/14
IPC结构图谱
G
G部——物理
G21
核物理；核工程
G21K
未列入其他类目的粒子或电离辐射的处理技术；照射装置；γ射线或X射线显微镜
G21K1/00
粒子或电离辐射的处理装置，如聚焦或慢化
G21K1/08
用电或磁装置使束流偏转、集中或聚焦
G21K1/093
用磁的装置
法律状态
2022-04-29 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : G21K 1/093
申请日 : 20200828
申请日 : 20200828
2022-04-12 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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