EMC近场电磁场检测设备
授权
摘要

本实用公开了EMC近场电磁场检测设备,包括近场探头,其特征在于:所述近场探头固定安装在四轴机械臂上,所述四轴机械臂固定安装在底座上,被测工件通过定位夹具固定安装在底座上,所述近场探头电性连接在控制装置上,所述控制装置分别电性连接在四轴机械臂和频谱分析仪上。本实用通过将近场探头固定安装在四轴机械臂上,通过控制装置发出信号控制四轴机械臂运动,能够实现近场探头在被测工件上方实现任意位置、任意轨迹、任意速度的检测,同时能够实现检测轨迹的精确定位,进而加快检测磁场的效率。

基本信息
专利标题 :
EMC近场电磁场检测设备
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN202021806740.1
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2020-08-26
授权号 :
CN213023345U
授权日 :
2021-04-20
发明人 :
刘兴家石然韩非李鹏萱
申请人 :
商飞信息科技(上海)有限公司
申请人地址 :
上海市徐汇区冠生园路223号20幢559室
代理机构 :
上海骁象知识产权代理有限公司
代理人 :
孙路生
优先权 :
CN202021806740.1
主分类号 :
G01R29/08
IPC分类号 :
G01R29/08  
相关图片
IPC结构图谱
G
G部——物理
G01
测量;测试
G01R
测量电变量;测量磁变量
G01R29/00
不包括在G01R19/00至G01R27/00各组中的电量的测量或指示装置
G01R29/08
电磁场特性的测量
法律状态
2021-04-20 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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