声学膜阵列的优化
公开
摘要
一种声学装置(100)，该声学装置包括形成在箔(10)上的声学膜(1，2，3，4)的阵列。声学膜(1，2，3，4)中的每一个被配置为在声学膜(1，2，3，4)的谐振频率(Fr)下进行振动，以产生相应的声波(W1，W2，W3，W4)。相对相位(ΔΦ12，ΔΦ34)被确定，在该相对相位处，声学膜(1，2，4，5)被致动以在声波(W1，W2，W3，W4)之间生成预定的干涉图案(C)。兰姆波(Ws)的兰姆波长(λs)被确定，该兰姆波在谐振频率(Fr)下穿过邻近声学膜(1，2；3，4)之间的箔(10)的中间部分(10i，10j)。布局中的邻近声学膜(1，2；3，4)之间的中间部分(10i，10j)的距离(X12，X34)是根据相对相位(ΔΦ12，ΔΦ34)和兰姆波长(λs)来确定的，以使得通过声学膜(1，3)产生的兰姆波(Ws)与邻近的声学膜(2，4)同相到达。
基本信息
专利标题 ：
声学膜阵列的优化
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114342417A
申请号 ：
CN202080060498.4
公开（公告）日 ：
2022-04-12
申请日 ：
2020-08-27
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
希尔克·布勒·阿克曼保罗·路易斯·玛莉亚·约瑟夫·万妮尔阿尔诺·威廉·弗雷德里克·佛尔克
申请人 ：
荷兰应用自然科学研究组织TNO
申请人地址 ：
荷兰海牙
代理机构 ：
北京派特恩知识产权代理有限公司
代理人 ：
孟媛
优先权 ：
CN202080060498.4
主分类号 ：
H04R7/12
IPC分类号 ：
H04R7/12 H04R7/14 H04R9/02
法律状态
2022-04-12 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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