自动分析装置及其水平校准方法
实质审查的生效
摘要
自动分析装置具备：反应盘；反应容器，其架设于该反应盘；反应槽(14)，其用于将该反应容器浸渍于反应槽水；水位传感器(19)，其检测该反应槽(14)的水位；试剂探针(9)，其向反应容器吸引/排出试剂；以及控制部，试剂探针(9)在预定部位具备检测水的存在的水检测部，并能够检测反应槽的水位，控制部具有利用水位传感器(19)和试剂探针(9)在至少三处(例如，第一水位确认部(16)、第二水位确认部(17)、第三水位确认部(18))检测反应槽(14)的水位，并确认反应槽(14)或设置有该反应槽(14)的装置的水平度的功能。
基本信息
专利标题 ：
自动分析装置及其水平校准方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114375398A
申请号 ：
CN202080061163.4
公开（公告）日 ：
2022-04-19
申请日 ：
2020-03-10
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
峰村祐辅吉田悟郎
申请人 ：
株式会社日立高新技术
申请人地址 ：
日本东京都
代理机构 ：
北京银龙知识产权代理有限公司
代理人 ：
曾贤伟
优先权 ：
CN202080061163.4
主分类号 ：
G01N35/00
IPC分类号 ：
G01N35/00 G01N35/10
IPC结构图谱
G
G部——物理
G01
测量；测试
G01N
借助于测定材料的化学或物理性质来测试或分析材料
G01N35/00
不限于用G01N1/00至G01N33/00中任何单独一组提供的方法或材料所进行的自动分析；及材料的传送
法律状态
2022-05-06 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : G01N 35/00
申请日 : 20200310
申请日 : 20200310
2022-04-19 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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