等概率缺陷检测
公开
摘要
针对半导体检验图像，可基于在像素强度下的概率密度函数确定检测阈值。可接着将所述检测阈值应用到图像。这可通过估计基础数据的概率分布且调适所述检测阈值而在全部像素强度水平下以固定概率寻找离群点。可基于所述检测阈值优化激光功率。
基本信息
专利标题 ：
等概率缺陷检测
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114341630A
申请号 ：
CN202080061758.X
公开（公告）日 ：
2022-04-12
申请日 ：
2020-09-25
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
P·桑卡
申请人 ：
科磊股份有限公司
申请人地址 ：
美国加利福尼亚州
代理机构 ：
北京律盟知识产权代理有限责任公司
代理人 ：
刘丽楠
优先权 ：
CN202080061758.X
主分类号 ：
G01N21/95
IPC分类号 ：
G01N21/95 G06T7/00 G06T5/50 G06V10/44 G06V10/764
IPC结构图谱
G
G部——物理
G01
测量；测试
G01N
借助于测定材料的化学或物理性质来测试或分析材料
G01N21/00
利用光学手段，即利用亚毫米波、红外光、可见光或紫外光来测试或分析材料
G01N21/84
专用于特殊应用的系统
G01N21/88
测试瑕疵、缺陷或污点的存在
G01N21/95
特征在于待测物品的材料或形状
法律状态
2022-04-12 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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