喷嘴装置
公开
摘要
一种装置包括：管；具有第一本体壁和第二本体壁的本体；以及具有第一支撑部分和第二支撑部分的支撑结构。第一本体壁在第一方向上延伸，第二本体壁在不同于第一方向的第二方向上延伸，管的第一部分穿过第二本体壁中的开口，第一支撑部分被配置为附接到第一本体壁，并且管的第二部分被配置为：当第一支撑部分附接到第一本体壁时，穿过第二支撑部分。管的内部和本体的内部被配置为接纳熔融靶材料，并且靶材料在处于等离子体状态时发射极紫外(EUV)光。
基本信息
专利标题 ：
喷嘴装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114342563A
申请号 ：
CN202080061835.1
公开（公告）日 ：
2022-04-12
申请日 ：
2020-09-04
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
G·O·瓦斯琴科B·罗林格J·M·卢肯斯A·I·厄肖夫天田芳穗
申请人 ：
ASML荷兰有限公司
申请人地址 ：
荷兰维德霍温
代理机构 ：
北京市金杜律师事务所
代理人 ：
赵林琳
优先权 ：
CN202080061835.1
主分类号 ：
H05G2/00
IPC分类号 ：
H05G2/00
法律状态
2022-04-12 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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