用于在多个频率下控制RF参数的方法及装置
实质审查的生效
摘要
公开了一种用于控制RF等离子体属性的方法和装置。本公开的一些实施例在可在高温下操作的处理室内提供RF传感器。一些实施例提供了使用处理室内的RF传感器来测量RF等离子体属性以提供对RF产生器的反馈控制的方法。
基本信息
专利标题 ：
用于在多个频率下控制RF参数的方法及装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114424319A
申请号 ：
CN202080066374.7
公开（公告）日 ：
2022-04-29
申请日 ：
2020-08-19
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
Z·J·叶D·R·本杰明拉吉S·斯里瓦斯塔瓦N·S·乔拉普尔N·O·穆库提D·A·迪兹尔诺J·C·罗查
申请人 ：
应用材料公司
申请人地址 ：
美国加利福尼亚州
代理机构 ：
上海专利商标事务所有限公司
代理人 ：
汪骏飞
优先权 ：
CN202080066374.7
主分类号 ：
H01J37/32
IPC分类号 ：
H01J37/32
IPC结构图谱
H
H部——电学
H01
基本电气元件
H01J
放电管或放电灯
H01J37/00
有把物质或材料引入使受到放电作用的结构的电子管，例如为了对其检验或加工的
H01J37/32
充气放电管
法律状态
2022-05-20 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : H01J 37/32
申请日 : 20200819
申请日 : 20200819
2022-04-29 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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