光电波形分析过程
公开
摘要
可重构光学探针用于测量来自被测装置的信号。所述可重构光学探针被定位在所述被测装置的单元内的目标探针位置处。所述单元包括待测量的目标网络和多个非目标网络。将测试图案应用于所述单元，并且作为响应，获得激光探针(LP)波形。通过以下方式从所述LP波形提取目标网络波形：i)配置所述可重构光学探针以产生环状光束，所述环状光束在所述环状光束的中心具有相对低强度区域；(ii)在将所述相对低强度区域应用于所述目标网络的情况下，在所述目标探针位置处将所述测试图案再次应用于所述单元，并且作为响应，获得串扰LP波形；(iii)对所述串扰LP波形进行归一化；以及(iv)通过从所述LP波形减去所述归一化的串扰LP波形来确定目标网络波形。
基本信息
专利标题 ：
光电波形分析过程
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114514431A
申请号 ：
CN202080067124.5
公开（公告）日 ：
2022-05-17
申请日 ：
2020-09-25
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
文卡特·克里希南·拉维库玛陈健明乔尔·光威·杨白敬良
申请人 ：
超威半导体公司
申请人地址 ：
美国加利福尼亚州
代理机构 ：
上海胜康律师事务所
代理人 ：
樊英如
优先权 ：
CN202080067124.5
主分类号 ：
G01R23/17
IPC分类号 ：
G01R23/17 G01R31/311 G01R31/28
IPC结构图谱
G
G部——物理
G01
测量；测试
G01R
测量电变量；测量磁变量
G01R23/00
测量频率的装置；频谱分析装置
G01R23/16
谱分析；傅立叶分析
G01R23/17
具有光学辅助器件
法律状态
2022-05-17 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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