多/高光谱二维图像处理
公开
摘要
提供了一种包括一个或多个处理器(102)的装置(100)，该处理器(102)被配置为获取对象在相应波长处的多/高光谱二维图像。对于与对象表面上的第一点相对应的图像的至少一个像素，将针对所述至少一个像素的强度值集合与特性曲线进行比较，以确定相似性度量。根据相似性度量来估计第一点的第一角度，或者使用相似性度量在第一点处对图像应用校正。特性曲线是对象表面上的相对于图像的平面成第二角度的至少一个第二点的光谱与对象表面上的相对于图像的平面成第三角度的至少一个第三点的光谱之间的差异。
基本信息
专利标题 ：
多/高光谱二维图像处理
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114450567A
申请号 ：
CN202080067806.6
公开（公告）日 ：
2022-05-06
申请日 ：
2020-09-15
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
E·G·P·舒伊杰斯
申请人 ：
皇家飞利浦有限公司
申请人地址 ：
荷兰艾恩德霍芬市
代理机构 ：
北京市金杜律师事务所
代理人 ：
袁端端
优先权 ：
CN202080067806.6
主分类号 ：
G01J3/28
IPC分类号 ：
G01J3/28 G01J3/02 G06T7/00
IPC结构图谱
G
G部——物理
G01
测量；测试
G01J
红外光、可见光、紫外光的强度、速度、光谱成分，偏振、相位或脉冲特性的测量；比色法；辐射高温测定法
G01J3/00
光谱测定法；分光光度测定法；单色器；测定颜色
G01J3/28
光谱测试
法律状态
2022-05-06 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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