激光元件、化合物、化合物的制造方法、激光增感剂
公开
摘要
本发明提供一种在发光层中包含由下述通式表示的化合物的激光元件。R1及R5表示哈米特的σp值为正的取代基，R2～R4、R6～R15表示氢原子或取代基。
基本信息
专利标题 ：
激光元件、化合物、化合物的制造方法、激光增感剂
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114450814A
申请号 ：
CN202080067864.9
公开（公告）日 ：
2022-05-06
申请日 ：
2020-09-25
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
S·D·A·桑达纳亚卡K·P·W·B·S·B·卡鲁纳提拉卡U·巴里加帕里A·M·C·塞内维拉斯松岛敏则安达千波矢
申请人 ：
国立大学法人九州大学;株式会社考拉科技
申请人地址 ：
日本福冈县
代理机构 ：
北京三友知识产权代理有限公司
代理人 ：
于洁
优先权 ：
CN202080067864.9
主分类号 ：
H01L51/50
IPC分类号 ：
H01L51/50 H01S5/36 C09K11/06 C07F9/6568
法律状态
2022-05-06 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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