用于存储器系统的印迹恢复管理
实质审查的生效
摘要
描述用于存储器系统的印迹恢复管理的方法、系统和装置。在一些情况下,存储器单元可变得被压印,压印可以指其中单元变得倾向于存储一个逻辑状态而不是另一逻辑状态,不易被写入不同的逻辑状态或这两种情况均存在的各种状况。可使用恢复或修复过程恢复经压印存储器单元,可根据各种条件、检测或推断发起所述恢复或修复过程。在一些实例中,系统可被配置成执行根据印迹的所表征严重性、操作模式、环境条件和其它因素进行调整或选择的印迹恢复操作。印迹管理技术能够提高存储器系统或其组件在存在与存储器单元压印相关联的条件的情况下能够进行操作的稳健性、准确性或效率。
基本信息
专利标题 :
用于存储器系统的印迹恢复管理
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN114556479A
申请号 :
CN202080071562.9
公开(公告)日 :
2022-05-27
申请日 :
2020-09-03
授权号 :
暂无
授权日 :
暂无
发明人 :
S·S·巴苏塔S·班加洛尔·拉克什曼J·D·哈玛斯J·J·斯特兰德
申请人 :
美光科技公司
申请人地址 :
美国爱达荷州
代理机构 :
北京律盟知识产权代理有限责任公司
代理人 :
王龙
优先权 :
CN202080071562.9
主分类号 :
G11C11/22
IPC分类号 :
G11C11/22 G06F11/07 G06F11/10 G06F12/10
IPC结构图谱
G
G部——物理
G11
信息存储
G11C
静态存储器
G11C11/08
应用多孔存储元件的,例如:应用多孔磁芯存储器;应用把几个单独的多孔存储元件合并起来的板
G11C11/21
应用电元件的
G11C11/22
应用铁电元件的
法律状态
2022-06-14 :
实质审查的生效
IPC(主分类) : G11C 11/22
申请日 : 20200903
申请日 : 20200903
2022-05-27 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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