经由双通光场重建的样本成像
公开
摘要
用于经由双通光场重建的样本成像的方法和系统。在示例性方法(50)中，可以在光场平面(76)中捕获样本(74)的光场图像(72)。光场图像(72)可以被计算地正向投影到对象空间(78)中的多个z平面中的每一个，以生成一组正向投影的z平面图像(88a‑f)。可以计算将从每个z平面图像的对象空间(78)中的相同xy区域向光场平面(76)的反向投影与光场图像(72)进行比较，以确定来自z平面图像(88a‑f)中的每一个的反向投影的xy区域与光场图像(72)之间的相应对应程度。对于每个不同的xy区域，可以选择正向投影的z平面图像(88a‑f)中的至少一个来贡献用于样本(74)的2D或3D对象空间图像中的不同的xy区域的数据。
基本信息
专利标题 ：
经由双通光场重建的样本成像
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114556411A
申请号 ：
CN202080071626.5
公开（公告）日 ：
2022-05-27
申请日 ：
2020-08-11
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
雷蒙德·莱特纳扬·施泰因布伦纳
申请人 ：
分子装置（奥地利）有限公司
申请人地址 ：
奥地利哈莱恩
代理机构 ：
北京天昊联合知识产权代理有限公司
代理人 ：
麦善勇
优先权 ：
CN202080071626.5
主分类号 ：
G06T5/50
IPC分类号 ：
G06T5/50 G02B21/36
IPC结构图谱
G
G部——物理
G06
计算；推算或计数
G06T
一般的图像数据处理或产生
G06T5/00
图像的增强或复原
G06T5/50
通过使用多于一幅图像的，例如平均、减少
法律状态
2022-05-27 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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