光场成像装置

授权

摘要

本实用新型涉及一种光场成像装置，包括衍射光栅组件和像素阵列，通过衍射光栅组件接收场景的入射波前，对入射波前进行衍射，产生衍射波前，从而像素阵列接收衍射波前对应的衍射图案，根据衍射图案获取光场图像数据。由于衍射光栅具有相互垂直的两个方向的光栅，能够计算出入射波前在两个空间方向上的角度，其性能也不会因为入射光偏振状态的变化而降低，像素单元面积的使用率提升、尺寸减小，功耗降低，分辨率提高，光场图像数据获取更高效且在增加深度信息的同时保持二维图像的质量。

基本信息

专利标题：

光场成像装置

专利标题（英）：

暂无

公开（公告）号：

暂无

申请号：

CN201920444853.2

公开（公告）日：

暂无

申请日：

2019-04-03

授权号：

CN209525483U

授权日：

2019-10-22

发明人：

臧凯马志洁

申请人：

深圳市灵明光子科技有限公司

申请人地址：

广东省深圳市南山区西丽街道高新技术产业园北区清华信息港科研楼4层410号

代理机构：

广州华进联合专利商标代理有限公司

代理人：

熊文杰

优先权：

CN201920444853.2

主分类号：

G02B5/18

IPC分类号：

G02B5/18 G02B27/22 G02B27/44