用于散斑减少的堆叠的共焦脉冲展宽器系列
公开
摘要

提供了一种扩展的光学脉冲展宽器,该扩展的光学脉冲展宽器组合共焦脉冲展宽器,以在每个光路配置中生成例如4次反射、4次反射、12次反射和12次反射。包括不同反射镜分隔和延迟路径长度的组合可以导致非常长的脉冲展宽、长的光学延迟和最小的效率损失。而且,在扩展的光学脉冲展宽器中,可以相对于反射镜的曲率中心来定位至少一个分束器,以使每个光路“展平”,从而使光束能够在同一平面(例如,平行于地板)内传播。而且,各个反射镜的曲率和尺寸可以被设计为将分束器定位成更靠近反射镜组中的一个反射镜,以允许光学脉冲展宽器正确地适配在激光系统中的分配位置处。

基本信息
专利标题 :
用于散斑减少的堆叠的共焦脉冲展宽器系列
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN114585971A
申请号 :
CN202080072817.3
公开(公告)日 :
2022-06-03
申请日 :
2020-10-14
授权号 :
暂无
授权日 :
暂无
发明人 :
E·A·梅森赵中全叶红
申请人 :
西默有限公司
申请人地址 :
美国加利福尼亚州
代理机构 :
北京市金杜律师事务所
代理人 :
赵林琳
优先权 :
CN202080072817.3
主分类号 :
G03F7/20
IPC分类号 :
G03F7/20  G02B27/14  G02B27/48  H01S3/00  H01S3/225  H01S3/23  
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F7/00
图纹面,例如,印刷表面的照相制版如光刻工艺;图纹面照相制版用的材料,如:含光致抗蚀剂的材料;图纹面照相制版的专用设备
G03F7/20
曝光及其设备
法律状态
2022-06-03 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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