易于调节的光学发射光谱仪
公开
摘要

本发明涉及一种易于调节的光学发射光谱仪(1),以及一种用于建立和操作这种光谱仪(1)的方法(100),该光谱仪(1)包括用于从样品材料建立发光等离子体的等离子体支架(2),以及用于测量由等离子体发射的光(L)的光谱的光学系统(3),光谱是样品材料的特征,其中所述光学系统(3)包括至少一个光入射孔径(31)、用于分离来自所述等离子体(A)的光(L)的至少一个衍射光栅(32)和用于测量所述光(L)的光谱的一个或多个检测器(33),其中所述等离子体支架(2)和所述光学系统(3)分别直接和固定地安装在彼此直接和固定连接的等离子体支架凸缘(2B)和光学系统凸缘(3B)上,并且其中,光学发射光谱仪(1)还包括分析单元(34),所述分析单元(34)适于分析所测量的光谱,并且考虑到所述光学系统(3)的热膨胀,补偿可能由从所述等离子体支架(2)传递到所述光学系统(3)的热量所引起的光谱相对于检测器(33)的漂移。

基本信息
专利标题 :
易于调节的光学发射光谱仪
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN114585906A
申请号 :
CN202080073654.0
公开(公告)日 :
2022-06-03
申请日 :
2020-11-04
授权号 :
暂无
授权日 :
暂无
发明人 :
安德烈·佩特斯莱纳·西蒙斯
申请人 :
日立高科技分析科学有限公司
申请人地址 :
德国于德姆
代理机构 :
上海华诚知识产权代理有限公司
代理人 :
肖华
优先权 :
CN202080073654.0
主分类号 :
G01N21/01
IPC分类号 :
G01N21/01  G01N21/71  G01N21/73  
IPC结构图谱
G
G部——物理
G01
测量;测试
G01N
借助于测定材料的化学或物理性质来测试或分析材料
G01N21/00
利用光学手段,即利用亚毫米波、红外光、可见光或紫外光来测试或分析材料
G01N21/01
便于进行光学测试的装置或仪器
法律状态
2022-06-03 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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