一种具有高红外反射率的微叠层薄膜及其制备方法
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摘要

本公开提供了一种具有高红外反射率的微叠层薄膜及其制备方法,步骤包括:采用电射流方法在预处理过的基体表面依次沉积金属间化合物‑碳化物复合薄膜和金属氧化物薄膜,形成具有多层结构的微叠层薄膜;采用电射流方法沉积多层微叠层薄膜,设备简单、可控性强、沉积速率高,同时制备的微叠层薄膜致密度高,薄膜表面气孔少和微裂纹少,且薄膜具有较高的红外反射率;解决了旋涂法对实验环境要求高且制备的薄膜不均匀和激光熔覆法的激光熔覆设备昂贵,而且得到的涂层内部气孔较多,涂层组织不均匀,这使得涂层具有较低的红外反射率的问题。

基本信息
专利标题 :
一种具有高红外反射率的微叠层薄膜及其制备方法
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN112877685A
申请号 :
CN202110050023.3
公开(公告)日 :
2021-06-01
申请日 :
2021-01-14
授权号 :
CN112877685B
授权日 :
2022-04-12
发明人 :
王冉邓建新张志慧
申请人 :
山东大学
申请人地址 :
山东省济南市历下区经十路17923号
代理机构 :
济南圣达知识产权代理有限公司
代理人 :
李圣梅
优先权 :
CN202110050023.3
主分类号 :
C23C24/08
IPC分类号 :
C23C24/08  B22F1/00  B22F9/04  B22F7/02  
IPC结构图谱
C
C部——化学;冶金
C23
对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C24/00
自无机粉末起始的镀覆(熔融态覆层材料的喷镀入C23C4/00;固渗入C23C8/00-C23C12/00
C23C24/08
加热法或加压加热法的
法律状态
2022-04-12 :
授权
2021-06-18 :
实质审查的生效
IPC(主分类) : C23C 24/08
申请日 : 20210114
2021-06-01 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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