一种可见光红外双波段大视场同轴折反射式光学系统及成像方法
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摘要

本发明涉及应用光学领域中的大视场光学成像技术,特别涉及一种可见光红外双波段大视场同轴折反射式光学系统及成像方法,包括沿物点发出的光线入射方向依次设置的反射镜、具有正光焦度的第一折射透镜、具有正光焦度的第二折射透镜、具有负光焦度的第三折射透镜、具有正光焦度的第四折射透镜、具有负光焦度的第五折射透镜和具有正光焦度的第六折射透镜;位于第三折射透镜和第四折射透镜之间设置有孔径光阑;所述第二折射透镜与第三折射透镜组合成第一组双胶合透镜,所述第四折射透镜和第五折射透镜组合成第二组双胶合透镜。该光学系统能够在实现大视场、高成像性能基础上,同时可以达到工作在可见光及红外双波段都能较清晰成像。

基本信息
专利标题 :
一种可见光红外双波段大视场同轴折反射式光学系统及成像方法
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN112666695A
申请号 :
CN202110106146.4
公开(公告)日 :
2021-04-16
申请日 :
2021-01-26
授权号 :
CN112666695B
授权日 :
2022-04-08
发明人 :
曹一青沈志娟
申请人 :
莆田学院
申请人地址 :
福建省莆田市城厢区学园中街1133号
代理机构 :
福州元创专利商标代理有限公司
代理人 :
陈方淮
优先权 :
CN202110106146.4
主分类号 :
G02B17/08
IPC分类号 :
G02B17/08  G02B13/00  
IPC结构图谱
G
G部——物理
G02
光学
G02B
光学元件、系统或仪器附注
G02B17/00
有或无折射元件的具有反射面的系统
G02B17/08
折反射系统
法律状态
2022-04-08 :
授权
2021-05-04 :
实质审查的生效
IPC(主分类) : G02B 17/08
申请日 : 20210126
2021-04-16 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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