同轴多波段反射式消像旋光学系统
授权
摘要
本实用新型公开了一种同轴多波段反射式消像旋光学系统，同轴多波段反射式消像旋光学系统包括：扫描件；成像组件，成像组件与扫描件沿第一方向间隔设置；反射组件，反射组件可旋转地设置于扫描件与成像组件之间；光线经扫描件后入射至反射组件，光线在反射组件内多次反射后入射至成像组件。采用本实用新型，利用反射组件对光线进行多次反射，以实现消像旋功能，不仅可以使得该消像旋光学系统适用于多波段光线，还可以保证该消像旋光学系统的光学性能和高质量像质。
基本信息
专利标题 ：
同轴多波段反射式消像旋光学系统
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN201921707100.2
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2019-10-12
授权号 ：
CN210864180U
授权日 ：
2020-06-26
发明人 ：
杜晓宇杨加强彭晴晴李江勇王诚
申请人 ：
中国电子科技集团公司第十一研究所
申请人地址 ：
北京市朝阳区酒仙桥路4号
代理机构 ：
工业和信息化部电子专利中心
代理人 ：
于金平
优先权 ：
CN201921707100.2
主分类号 ：
G02B17/08
IPC分类号 ：
G02B17/08 G02B26/10
IPC结构图谱
G
G部——物理
G02
光学
G02B
光学元件、系统或仪器附注
G02B17/00
有或无折射元件的具有反射面的系统
G02B17/08
折反射系统
法律状态
2020-06-26 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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