降低叠氮化亚铜薄膜静电感度的方法
授权
摘要
本发明公开了一种降低叠氮化亚铜薄膜静电感度的方法。所述方法以叠氮化亚铜薄膜材料作为阳极，以含有吡咯的溶液为电解液，在通电条件下吡咯在阳极完成电聚合反应，得到叠氮化亚铜/聚吡咯复合含能薄膜。本发明利用电化学方法，在液相环境中直接制备叠氮化亚铜/聚吡咯复合含能薄膜，简单高效，制备过程安全，可操作性强，适用性强，适用范围广。同时，制备工艺与MEMS工艺兼容，可将叠氮化亚铜/聚吡咯复合含能薄膜直接集成到点火芯片上。
基本信息
专利标题 ：
降低叠氮化亚铜薄膜静电感度的方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN112899746A
申请号 ：
CN202110159634.1
公开（公告）日 ：
2021-06-04
申请日 ：
2021-02-05
授权号 ：
CN112899746B
授权日 ：
2022-04-08
发明人 ：
张文超杨格行俞春培陈亚杰徐建勇宋长坤陈俊宏刘佳琪邬润辉
申请人 ：
南京理工大学
申请人地址 ：
江苏省南京市孝陵卫200号
代理机构 ：
南京理工大学专利中心
代理人 ：
刘海霞
优先权 ：
CN202110159634.1
主分类号 ：
C25D9/02
IPC分类号 ：
C25D9/02 C25D5/54 C25D5/18 C25D21/12 B82Y40/00
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C25
电解或电泳工艺；其所用设备
C25D
覆层的电解或电泳生产工艺方法；电铸；工件的电解法接合；所用的装置
C25D9/00
非金属电镀层
C25D9/02
有机材料的
法律状态
2022-04-08 ：
授权
2021-06-22 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : C25D 9/02
申请日 : 20210205
申请日 : 20210205
2021-06-04 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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