一种用于熔融涂覆成形工艺的熔体流量控制装置及方法
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摘要

本发明公开了一种用于熔融涂覆成形工艺的熔体流量控制装置及方法,包括坩埚熔炼单元、熔融涂覆头、气压驱动单元、射流启停装置、坩埚液位测距模块和工业计算机。水冷顶盖位于熔炼坩埚上方,熔融涂覆头置于熔炼坩埚下方;坩埚熔炼单元和气压驱动单元连通;射流启停装置驱动启停控制杆向下压紧或向上抬升,以实现射流的启动和停止。压力控制采用三级分工:计算机根据压力‑流量函数关系,向PLC发送喷射压力,PLC同时接受来自激光测距模块的熔体液位信号和工业计算机的喷射压力,并将气压控制指令发送至压力控制器,由压力控制器实现对坩埚内气体压力的实时控制,从而实现成形过程中射流流量的精准控制,以完成目标零件高精度高效率涂覆成形。

基本信息
专利标题 :
一种用于熔融涂覆成形工艺的熔体流量控制装置及方法
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN113084202A
申请号 :
CN202110292839.7
公开(公告)日 :
2021-07-09
申请日 :
2021-03-18
授权号 :
CN113084202B
授权日 :
2022-05-20
发明人 :
魏正英贺鹏飞杜军马琛蒋敏博
申请人 :
西安交通大学
申请人地址 :
陕西省西安市咸宁西路28号
代理机构 :
西安通大专利代理有限责任公司
代理人 :
王艾华
优先权 :
CN202110292839.7
主分类号 :
B22F12/50
IPC分类号 :
B22F12/50  B22F12/90  B33Y30/00  B33Y50/02  
IPC结构图谱
B
B部——作业;运输
B22
铸造;粉末冶金
B22F
金属粉末的加工;由金属粉末制造制品;金属粉末的制造,金属粉末的专用装置或设备
B22F12/50
用于供给材料的装置,例如头部
法律状态
2022-05-20 :
授权
2021-07-27 :
实质审查的生效
IPC(主分类) : B22F 12/50
申请日 : 20210318
2021-07-09 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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