一种双光头激光熔覆成形工艺
授权
摘要
本发明一种双光头激光熔覆成形工艺，属于激光熔覆技术领域，其步骤为：将激光头Ⅰ和激光头Ⅱ的环向相对位置设置为0‑180度；激光头Ⅰ在基体上形成螺旋状涂层Ⅰ，涂层Ⅰ的螺纹Ⅰ与基体接触位置截面长度为φ1；激光头Ⅱ在两个相邻螺纹Ⅰ之间形成螺纹Ⅱ，螺纹Ⅱ组成螺旋状涂层Ⅱ；涂层Ⅰ和涂层Ⅱ形成最终熔覆层。涂层Ⅰ的搭接率为0%时，生产效率显著提高；激光头Ⅱ专用于覆盖涂层Ⅰ相邻螺纹Ⅰ之间的波谷，可以降低最终涂层的表面粗糙度，提高有效厚度；且两束激光同时作用下，后一束激光可以起到缓冷的作用，防止涂层开裂。
基本信息
专利标题 ：
一种双光头激光熔覆成形工艺
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114075666A
申请号 ：
CN202210058418.2
公开（公告）日 ：
2022-02-22
申请日 ：
2022-01-19
授权号 ：
CN114075666B
授权日 ：
2022-05-17
发明人 ：
陶汪王威洪臣王树良周远东
申请人 ：
亚琛联合科技（天津）有限公司
申请人地址 ：
天津市滨海新区开发区第九大街80号丰华园厂房二期4号厂房
代理机构 ：
天津展誉专利代理有限公司
代理人 ：
郑晓晨
优先权 ：
CN202210058418.2
主分类号 ：
C23C24/10
IPC分类号 ：
C23C24/10
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C24/00
自无机粉末起始的镀覆（熔融态覆层材料的喷镀入C23C4/00；固渗入C23C8/00-C23C12/00
C23C24/08
加热法或加压加热法的
C23C24/10
覆层中临时形成液相的
法律状态
2022-05-17 ：
授权
2022-03-11 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : C23C 24/10
申请日 : 20220119
申请日 : 20220119
2022-02-22 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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