一种可调节高度的熔覆激光头支架
授权
摘要

本实用新型公开了一种可调节高度的熔覆激光头支架,包括安装基座,所述安装基座的上端面的侧面分别设置有竖直方向的螺纹杆一和水平方向的螺纹杆二,所述螺纹杆一和螺纹杆二的端部分别固定连接有驱动电机一和驱动电机二,所述螺纹杆一上套设有固定块一。本实用新型中,利用螺纹杆一的转动带动固定块一在竖直方向上移动,固定块一的移动通过限位杆带动连接块和激光头安装板同步移动,从而实现激光头的高度调节,利用螺纹杆二的转动带动固定块二在水平方向上移动,固定块二的移动通过立柱带动连接块和激光头安装板同步移动,实现了激光头在水平方向的移动,从而提高了激光头的调节效率。

基本信息
专利标题 :
一种可调节高度的熔覆激光头支架
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN201922189479.9
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2019-12-09
授权号 :
CN210886230U
授权日 :
2020-06-30
发明人 :
蔡志海郭杰杜娴李静柳建刘军王思捷秦航乔玉林朱有利
申请人 :
中国人民解放军陆军装甲兵学院
申请人地址 :
北京市丰台区杜家坎21号院
代理机构 :
北京同辉知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人 :
张明利
优先权 :
CN201922189479.9
主分类号 :
C23C24/10
IPC分类号 :
C23C24/10  
相关图片
IPC结构图谱
C
C部——化学;冶金
C23
对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C24/00
自无机粉末起始的镀覆(熔融态覆层材料的喷镀入C23C4/00;固渗入C23C8/00-C23C12/00
C23C24/08
加热法或加压加热法的
C23C24/10
覆层中临时形成液相的
法律状态
2020-06-30 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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