一种高强度光可逆胶粘剂、制备方法及应用
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摘要

本发明公开了一种高强度光可逆胶粘剂、制备方法及应用。本发明首先将含蒽基的化合物原料环氧化,制备出含蒽的环氧化产物,再与端巯基醇化合物及促进剂混合,在室温下进行开环,制备得到含有蒽基侧链的双端羟基化合物。采用双端异氰酸酯基化合物和双端羟基的聚己内酯,加入有机锡催化剂,进行扩链反应形成较大分子量的扩链双端异氰酸酯基化合物。最后,将扩链双端异氰酸酯基化合物与含有蒽基侧链的双端羟基化合物和不含有蒽基侧链的双端羟基化合物反应,加入有机锡催化剂催化反应,得到所述的高强度光可逆胶粘剂。本发明的胶粘剂在350~405nm的紫外光照射下进行[4+4]环加成反应,固化;在小于300nm的紫外光照射下解交联。

基本信息
专利标题 :
一种高强度光可逆胶粘剂、制备方法及应用
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN113337238A
申请号 :
CN202110311856.0
公开(公告)日 :
2021-09-03
申请日 :
2021-03-24
授权号 :
CN113337238B
授权日 :
2022-05-17
发明人 :
程珏刘子宇张军营
申请人 :
北京化工大学
申请人地址 :
北京市朝阳区北三环东路15号
代理机构 :
北京知舟专利事务所(普通合伙)
代理人 :
周媛
优先权 :
CN202110311856.0
主分类号 :
C09J175/06
IPC分类号 :
C09J175/06  C08G18/66  C08G18/42  C08G18/32  
IPC结构图谱
C
C部——化学;冶金
C09
染料;涂料;抛光剂;天然树脂;黏合剂;其他类目不包含的组合物;其他类目不包含的材料的应用
C09J
黏合剂;一般非机械方面的黏合方法;其他类目不包括的黏合方法;黏合剂材料的应用
C09J175/00
基于聚脲或聚氨酯的黏合剂;基于此种聚合物衍生物的黏合剂
C09J175/04
聚氨酯
C09J175/06
由聚酯
法律状态
2022-05-17 :
授权
2021-09-21 :
实质审查的生效
IPC(主分类) : C09J 175/06
申请日 : 20210324
2021-09-03 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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