一种低钴含量高强中导Cu-Ni-Co-Si系合金及其制备...
授权
摘要
本发明采用机器学习方法设计了一种新型高强中导Cu‑Ni‑Co‑Si系合金及其制备方法，属于新材料设计与开发技术领域。开发的低钴含量Cu‑Ni‑Co‑Si系合金成分特征在于：Ni含量为1.50wt％～2.50wt％，Co含量为0.20wt％～0.49wt％，Si含量为0.50wt％～1.20wt％，Mg含量为0.05wt％～0.40wt％，Zn含量为0.05wt％～0.50wt％，余量Cu。根据需要，还可以添加Zr、Cr、Ca、Ti或稀土等一种或多种微合金化元素，以提升合金的使用性能。与现有Cu‑Ni‑Co‑Si系典型高性能合金C70350相比，本发明合金成分的主要特点包括：(1)超低Co含量，低于C70350合金Co含量下限的一半；(2)含有Mg、Zn合金元素，为六元或六元以上的复杂多元合金。所设计合金抗拉强度可达850～900MPa，断后伸长率为7.0％～10.0％，导电率为45％～55％IACS，适合大规模工业化生产与应用。
基本信息
专利标题 ：
一种低钴含量高强中导Cu-Ni-Co-Si系合金及其制备工艺
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN113106293A
申请号 ：
CN202110330510.5
公开（公告）日 ：
2021-07-13
申请日 ：
2021-03-25
授权号 ：
CN113106293B
授权日 ：
2022-04-22
发明人 ：
付华栋谢建新张洪涛
申请人 ：
北京科技大学
申请人地址 ：
北京市海淀区学院路30号
代理机构 ：
北京市广友专利事务所有限责任公司
代理人 ：
张仲波
优先权 ：
CN202110330510.5
主分类号 ：
C22C9/06
IPC分类号 ：
C22C9/06 C22C1/03 C22F1/08 C22F1/02
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C22
冶金；黑色或有色金属合金；合金或有色金属的处理
C22C
合金
C22C9/00
铜基合金
C22C9/06
镍或钴作次主要成分的
法律状态
2022-04-22 ：
授权
2021-07-30 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : C22C 9/06
申请日 : 20210325
申请日 : 20210325
2021-07-13 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
文件下载
暂无PDF文件可下载
