一种具有红外波段高吸收的3D打印超黑材料的制备方法
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摘要
本发明公开了一种具有红外波段高吸收的3D打印超黑材料的制备方法；属于空间光学系统杂散光抑制领域。本发明解决了现有3D打印技术制备的超黑材料普遍存在的红外波段吸收率较低的问题。本发明通过调控3D打印喷涂工艺制备出可控表面几何结构、内壁微孔结构的杂散光抑制用超黑材料，并采用原子层沉积技术在超黑材料表面沉积AZO薄膜。本发明利用原子层沉积技术的高保形性特征在不影响超黑材料杂散光抑制结构(内壁微孔，几何结构)的基础上进一步提升超黑材料的红外波段吸收率，扩展该3D打印黑色材料在空间光学领域的应用空间。
基本信息
专利标题 ：
一种具有红外波段高吸收的3D打印超黑材料的制备方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN113263744A
申请号 ：
CN202110399783.5
公开（公告）日 ：
2021-08-17
申请日 ：
2021-04-14
授权号 ：
CN113263744B
授权日 ：
2022-06-14
发明人 ：
吴晓宏熊启阳李杨卢松涛秦伟洪杨康红军
申请人 ：
哈尔滨工业大学
申请人地址 ：
黑龙江省哈尔滨市西大直街92号
代理机构 ：
哈尔滨市阳光惠远知识产权代理有限公司
代理人 ：
张金珠
优先权 ：
CN202110399783.5
主分类号 ：
B29C69/00
IPC分类号 ：
B29C69/00 B29C64/118 B29C48/05 C23C16/455 C23C16/40 B33Y10/00
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IPC结构图谱
B
B部——作业；运输
B29
塑料的加工；一般处于塑性状态物质的加工
B29C
塑料的成型连接；塑性状态材或料的成型，不包含在其他类目中的；已成型产品的后处理，例如修整
B29C69/00
不包含在B29C39/00至B29C67/00单独一个大组的成型技术的组合，例如成型和接合技术的联合；所用的设备
法律状态
2022-06-14 ：
授权
2021-09-03 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : B29C 69/00
申请日 : 20210414
申请日 : 20210414
2021-08-17 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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