一种半导体石墨烯纳米带及其制备方法与应用
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摘要
本发明提供了一种半导体石墨烯纳米带及其制备方法与应用,制备方法包括步骤:将单壁碳纳米管在空气中进行退火处理,之后加入浓硫酸中并搅拌,得到单壁碳纳米管悬浮液;将高锰酸钾加入单壁碳纳米管悬浮液中,进行反应;反应完成后,将反应液倒入冰水中,过滤、干燥,得到具有缺陷的单壁碳纳米管;将得到的具有缺陷的单壁碳纳米管加入十二烷基苯磺酸钠水溶液中进行超声处理,经过滤、干燥,得到半导体石墨烯纳米带,经高温退火,得到高品质半导体石墨烯纳米带。本发明的方法工艺简单、易于大规模制备,得到的半导体石墨烯纳米带品质高、均匀性好。基于所得石墨烯纳米带的场效应晶体管不仅得到超过105的电流开关比,而且还具有光致发光效应。
基本信息
专利标题 :
一种半导体石墨烯纳米带及其制备方法与应用
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN113148989A
申请号 :
CN202110408881.0
公开(公告)日 :
2021-07-23
申请日 :
2021-04-16
授权号 :
CN113148989B
授权日 :
2022-05-17
发明人 :
宋爱民李虎
申请人 :
山东大学
申请人地址 :
山东省济南市历城区山大南路27号
代理机构 :
济南金迪知识产权代理有限公司
代理人 :
王素平
优先权 :
CN202110408881.0
主分类号 :
C01B32/184
IPC分类号 :
C01B32/184 H01L29/16
IPC结构图谱
C
C部——化学;冶金
C01
无机化学
C01B
非金属元素;其化合物
C01B32/00
碳;其化合物
C01B32/15
纳米级碳材料
C01B32/182
石墨烯
C01B32/184
制备
法律状态
2022-05-17 :
授权
2021-08-10 :
实质审查的生效
IPC(主分类) : C01B 32/184
申请日 : 20210416
申请日 : 20210416
2021-07-23 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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