密集方位采样分块式平面光电成像系统
授权
摘要
本发明公开一种密集方位采样分块式平面光电成像系统,属于干涉成像技术领域,包括若干个沿圆周径向均匀排列的一维干涉臂,其包括从顶层至底层顺次分布的微透镜阵列、光子集成电路子系统、平衡正交探测器阵列和信号处理子系统;每一个一维干涉臂上均设有奇数个采取首尾相接配对方式的微透镜,来自目标场景的光经过透镜对耦合进入光子集成电路子系统,形成干涉条纹,信号处理子系统根据平衡正交探测器阵列检测的互相干可见度信息得到离散空间采样频谱,对离散空间采样频谱进行重建,对重建后的空间采样频谱进行傅里叶逆变换,得到重建的目标场景图像。本发明能够有效弱化理想图像伪影,提高理想图像成像质量,同时提高实际目标场景图像质量。
基本信息
专利标题 :
密集方位采样分块式平面光电成像系统
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN113179360A
申请号 :
CN202110453645.0
公开(公告)日 :
2021-07-27
申请日 :
2021-04-26
授权号 :
CN113179360B
授权日 :
2022-04-08
发明人 :
刘春雨胡荟灵张玉鑫冯钦评刘帅
申请人 :
中国科学院长春光学精密机械与物理研究所
申请人地址 :
吉林省长春市东南湖大路3888号
代理机构 :
长春众邦菁华知识产权代理有限公司
代理人 :
张伟
优先权 :
CN202110453645.0
主分类号 :
H04N5/21
IPC分类号 :
H04N5/21 H04N5/217 G02B3/00
法律状态
2022-04-08 :
授权
2021-08-13 :
实质审查的生效
IPC(主分类) : H04N 5/21
申请日 : 20210426
申请日 : 20210426
2021-07-27 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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