抑制放大自发辐射和寄生振荡的激光钕玻璃及其制备方法和应用
授权
摘要
本发明提供了一种抑制放大自发辐射和寄生振荡的激光钕玻璃及其制备方法和应用，该方法包括以下步骤：1)Cu+离子交换；2)电场辅助离子扩散；3)Cu+离子氧化。本发明的激光钕玻璃在1053nm处的反射率0‑1％，铜离子交换层的深度大于250μm。
基本信息
专利标题 ：
抑制放大自发辐射和寄生振荡的激光钕玻璃及其制备方法和应用
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN113185145A
申请号 ：
CN202110466209.7
公开（公告）日 ：
2021-07-30
申请日 ：
2021-04-28
授权号 ：
CN113185145B
授权日 ：
2022-05-17
发明人 ：
孔壮刘辉贾金升孙勇曹振博赵冉余刚孟政孟凡禹
申请人 ：
中国建筑材料科学研究总院有限公司
申请人地址 ：
北京市朝阳区管庄东里1号
代理机构 ：
北京鼎佳达知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人 ：
霍红艳
优先权 ：
CN202110466209.7
主分类号 ：
C03C21/00
IPC分类号 ：
C03C21/00 H01S3/16 H01S3/17
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C03
玻璃；矿棉或渣棉
C03C
玻璃、釉或搪瓷釉的化学成分；玻璃的表面处理；由玻璃、矿物或矿渣制成的纤维或细丝的表面处理；玻璃与玻璃或与其他材料的接合
C03C21/00
通过表面离子或金属扩散法处理纤维或丝之外的玻璃
法律状态
2022-05-17 ：
授权
2021-08-17 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : C03C 21/00
申请日 : 20210428
申请日 : 20210428
2021-07-30 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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