一种激光高透曲面屏蔽玻璃制备方法及屏蔽玻璃
公开
摘要
本发明属于屏蔽玻璃技术领域，具体涉及一种激光高透曲面屏蔽玻璃制备方法及屏蔽玻璃，包括以下步骤：S1、对内表面具备金属网栅结构的曲面玻璃的中部进行遮挡，在其内表面沉积金靶材形成金属膜层，使其与金属网栅形成良好的电连接性能；S2、在S1沉积金靶材的曲面玻璃内外表面，交替沉积折射率不同的电介质靶材，形成减反增透膜层。本发明对于金属在导引头曲面罩的应用具有重大意义。特别是军用导引系统在瞄准、制导中的应用越来越广泛，如能在保证红外高透光率前赋予其高屏蔽效能，必将大大提高导弹的精准制导，在保障红外探测精准度，抵御强电磁信号的干扰以及潜在的高功率微波武器攻击等方面，具有重要的实践作用。
基本信息
专利标题 ：
一种激光高透曲面屏蔽玻璃制备方法及屏蔽玻璃
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114561615A
申请号 ：
CN202210192574.8
公开（公告）日 ：
2022-05-31
申请日 ：
2022-02-28
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
钱明灿张小刚王月祥张贵恩王腾吴点宇赵亚娟
申请人 ：
中国电子科技集团公司第三十三研究所
申请人地址 ：
山西省太原市经济技术开发区彩虹街1号
代理机构 ：
太原荣信德知识产权代理事务所(特殊普通合伙)
代理人 ：
彭富国
优先权 ：
CN202210192574.8
主分类号 ：
C23C14/04
IPC分类号 ：
C23C14/04 C23C14/18 C23C14/30 C23C14/06 C03C17/36 C23F4/00 H05K9/00
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/04
局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物
法律状态
2022-05-31 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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