可见光-近红外宽光谱增透型光栅式光学元件及其制备方法和应...
授权
摘要

本发明是关于一种可见光‑近红外宽光谱增透型光栅式光学元件及其制备方法和应用,所述可见光‑近红外宽光谱增透型光栅式光学元件包括基底,所述基底具有接收和透过入射光的正面以及相对的背面,所述基底的正面设有亚微米量级的微结构周期阵列;所述微结构周期阵列包括底面直径不同的两种微纳结构单元。本发明所提供的可见光‑近红外宽光谱增透型光栅式光学元件,通过在光学元件表面构建复合型微纳结构阵列组合,以实现宽光谱的降低反射、增强透射的目的。本发明的光学元件可单独作为光学镜头、或光学窗口使用,也可与常规的光学镜头或光学窗口耦合使用,来提升相关仪器设备的综合性能。

基本信息
专利标题 :
可见光-近红外宽光谱增透型光栅式光学元件及其制备方法和应用
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN113219570A
申请号 :
CN202110484128.X
公开(公告)日 :
2021-08-06
申请日 :
2021-04-30
授权号 :
CN113219570B
授权日 :
2022-04-12
发明人 :
周东站刘辉侯伟杰薄铁柱李庆杨金慧吕学良郑京明王乔李自金
申请人 :
中国建筑材料科学研究总院有限公司
申请人地址 :
北京市朝阳区管庄东里1号
代理机构 :
北京鼎佳达知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人 :
霍红艳
优先权 :
CN202110484128.X
主分类号 :
G02B5/18
IPC分类号 :
G02B5/18  
IPC结构图谱
G
G部——物理
G02
光学
G02B
光学元件、系统或仪器附注
G02B5/00
除透镜外的光学元件
G02B5/18
衍射光栅
法律状态
2022-04-12 :
授权
2021-08-24 :
实质审查的生效
IPC(主分类) : G02B 5/18
申请日 : 20210430
2021-08-06 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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