微光学衍射光栅及其制造方法

发明专利申请公布后的视为撤回

摘要

本发明涉及用于电磁辐射的微光学衍射光栅及适于制造其的方法。根据本发明的衍射光栅尤其可以用作显微分光计，其中可以以扫描微光栅的形式使用根据本发明的衍射光栅。根据所提出的目的，应该提供具有改善表面拓扑的衍射光栅，并且可以成本有效地大规模生产。在本发明的衍射光栅中，在基材(1)的表面上形成表面结构，该表面结构由等距离布置的、互相平行布置的线形结构元件(2)构成。此外，基材和结构元件的整个表面涂覆有至少一个其它层(3、4、5)，所述层形成具有交替布置的波峰和波谷的均匀的正弦波形表面轮廓。对于反射光栅可以另外施加反射层，以提高反射辐射的强度。

基本信息

专利标题：

微光学衍射光栅及其制造方法

专利标题（英）：

暂无

公开（公告）号：

CN101273290A

申请号：

CN200580051718.2

公开（公告）日：

2008-09-24

申请日：

2005-09-30

授权号：

暂无

授权日：

暂无

发明人：

法比安·齐默尔哈拉尔德·申克

申请人：

弗兰霍菲尔运输应用研究公司

申请人地址：

德国慕尼黑

代理机构：

北京集佳知识产权代理有限公司

代理人：

蔡胜有

优先权：

CN200580051718.2

主分类号：

G02B5/18

IPC分类号：

G02B5/18