制造衍射光栅的方法
公开
摘要
一种制造闪耀衍射光栅的方法包括：提供主模板基板；以及在多个主模板区域中在主模板基板上压印周期性重复的线。主模板区域中的不同主模板区域中的周期性重复的线在不同的方向上延伸。该方法还包括：使用主模板区域中的至少一个作为主模板来在光栅基板上压印至少一个闪耀衍射光栅图案。
基本信息
专利标题 ：
制造衍射光栅的方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114514443A
申请号 ：
CN202080065471.4
公开（公告）日 ：
2022-05-17
申请日 ：
2020-07-16
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
杨书强K·罗V·辛格F·Y·徐
申请人 ：
奇跃公司
申请人地址 ：
美国佛罗里达州
代理机构 ：
北京市中咨律师事务所
代理人 ：
林莹莹
优先权 ：
CN202080065471.4
主分类号 ：
G02B1/11
IPC分类号 ：
G02B1/11 G02B5/18 G02B27/00 G02B27/42
IPC结构图谱
G
G部——物理
G02
光学
G02B
光学元件、系统或仪器附注
G02B1/00
按制造材料区分的光学元件；用于光学元件的光学涂层
G02B1/10
对光学元件表面涂覆或对它进行表面处理后所产生的光学涂层
G02B1/11
抗反射涂层
法律状态
2022-05-17 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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