一种衍射光栅结构及其制备方法
授权
摘要
本公开提供了一种衍射光栅结构，包括多个重复的周期结构，每一周期结构包括至少一个栅脊和一个栅槽，其中：每一周期结构由中心位置向外均包括多个部分，每一部分为栅脊或者栅槽，当部分为栅槽时其深度满足预设条件。另一方面，本公开还提供了一种衍射光栅结构的制备方法。通过合理的设置栅槽的位置和深度，使得第7衍射级不仅具有较强的衍射效率，同时所有偶衍射级衍射效率均为0，较好的解决了现有的衍射光栅中存在偶衍射级尤其是较强的零衍射级的问题。
基本信息
专利标题 ：
一种衍射光栅结构及其制备方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN111580206A
申请号 ：
CN202010594124.2
公开（公告）日 ：
2020-08-25
申请日 ：
2020-06-24
授权号 ：
CN111580206B
授权日 ：
2022-06-07
发明人 ：
杨光华齐月静李璟苏佳妮马敬
申请人 ：
中国科学院微电子研究所
申请人地址 ：
北京市朝阳区北土城西路3号
代理机构 ：
中科专利商标代理有限责任公司
代理人 ：
周天宇
优先权 ：
CN202010594124.2
主分类号 ：
G02B5/18
IPC分类号 ：
G02B5/18
IPC结构图谱
G
G部——物理
G02
光学
G02B
光学元件、系统或仪器附注
G02B5/00
除透镜外的光学元件
G02B5/18
衍射光栅
法律状态
2022-06-07 ：
授权
2020-09-18 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : G02B 5/18
申请日 : 20200624
申请日 : 20200624
2020-08-25 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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