可变衍射光栅
公开
摘要
校准系统包括板、固定对准标记和可变衍射光栅。该板与被设置在晶片上的晶片对准标记相邻。固定对准标记被设置在板上，并被配置为用作校准系统的初始校准的参考标记。该可变衍射光栅被设置在板上，并且包括被配置为形成多个可变对准标记的多个单元体。可变衍射光栅被配置为对可变对准标记中的一个可变对准标记与固定对准标记的级间偏移进行校准。
基本信息
专利标题 ：
可变衍射光栅
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114616524A
申请号 ：
CN202080076347.8
公开（公告）日 ：
2022-06-10
申请日 ：
2020-10-12
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
A·阿尔萨卡F·厄尔-古森L·G·M·克塞尔斯R·雷兹瓦尼·纳拉吉K·肖梅T·A·布伦纳S·索科洛夫
申请人 ：
ASML控股股份有限公司;ASML荷兰有限公司
申请人地址 ：
荷兰维德霍温
代理机构 ：
北京市金杜律师事务所
代理人 ：
赵林琳
优先权 ：
CN202080076347.8
主分类号 ：
G03F9/00
IPC分类号 ：
G03F9/00
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F9/00
原版、蒙片、片框、照片、图纹表面的对准或定位，例如自动地
法律状态
2022-06-10 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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