一种衍射光栅的设计方法及系统
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摘要
本公开提供了一种衍射光栅的设计方法及系统，方法包括：S1，获得衍射光栅衍射光的零衍射级和高衍射级的衍射效率增强和缺级的条件；S2，根据零衍射级缺级的第一条件获得衍射光栅的槽深；S3，根据高衍射级增强的条件获得衍射光栅的栅脊宽度和栅脊之间的距离；S4，将步骤S3获得的结构复制并进行对称设置，以使高衍射级的偶衍射级缺级。该方法根据需要增强的衍射级次，选择相应的栅级和栅槽的宽度和位置，不需要将整个光栅结构均设置为优化条件进行优化，避免了大量计算。
基本信息
专利标题 ：
一种衍射光栅的设计方法及系统
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN111610586A
申请号 ：
CN202010594125.7
公开（公告）日 ：
2020-09-01
申请日 ：
2020-06-24
授权号 ：
CN111610586B
授权日 ：
2022-04-29
发明人 ：
李璟杨光华卢增雄张清洋丁敏侠
申请人 ：
中国科学院微电子研究所
申请人地址 ：
北京市朝阳区北土城西路3号
代理机构 ：
中科专利商标代理有限责任公司
代理人 ：
周天宇
优先权 ：
CN202010594125.7
主分类号 ：
G02B5/18
IPC分类号 ：
G02B5/18
IPC结构图谱
G
G部——物理
G02
光学
G02B
光学元件、系统或仪器附注
G02B5/00
除透镜外的光学元件
G02B5/18
衍射光栅
法律状态
2022-04-29 ：
授权
2020-09-25 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : G02B 5/18
申请日 : 20200624
申请日 : 20200624
2020-09-01 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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