凹面衍射光栅以及其制造方法、和光学装置
授权
摘要
提供能通过球面像差的抑制来提升衍射效率的凹面衍射光栅。凹面衍射光栅(2)对光进行分光、聚光，在凹面状的基板(24)上具有锯齿形状的光栅槽(21)，锯齿形状的光栅槽(21)的间隔不等。另外，通过用光刻法以及蚀刻、或机械加工在平面基板上形成锯齿形状，使形成锯齿形状为不等间隔的光栅槽(21)的平面衍射光栅在凸面固定基板上变形，来将安装的凹面衍射光栅的模转印到金属或树脂的表面，由此形成对光进行分光、聚光的凹面衍射光栅(2)。
基本信息
专利标题 ：
凹面衍射光栅以及其制造方法、和光学装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN112313548A
申请号 ：
CN201980042410.3
公开（公告）日 ：
2021-02-02
申请日 ：
2019-04-24
授权号 ：
CN112313548B
授权日 ：
2022-05-03
发明人 ：
青野宇纪江畠佳定八重樫健太松井繁
申请人 ：
株式会社日立高新技术
申请人地址 ：
日本东京都
代理机构 ：
中科专利商标代理有限责任公司
代理人 ：
吴秋明
优先权 ：
CN201980042410.3
主分类号 ：
G02B5/18
IPC分类号 ：
G02B5/18 G01J3/18
IPC结构图谱
G
G部——物理
G02
光学
G02B
光学元件、系统或仪器附注
G02B5/00
除透镜外的光学元件
G02B5/18
衍射光栅
法律状态
2022-05-03 ：
授权
2021-02-23 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : G02B 5/18
申请日 : 20190424
申请日 : 20190424
2021-02-02 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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