一种半导体调温装置
授权
摘要

本发明涉及一种半导体调温装置,包括冷端基板、绝热板、槽体、半导体制冷片、散热片、散热风机和格栅盖板,冷端基板、绝热板和槽体由下至上依次固定连接,绝热板和槽体的底壁上对应设有第一方孔和第二方孔,半导体制冷片卡装在第一方孔和第二方孔中,散热片和散热风机由下至上固定在槽体中,格栅盖板固定在槽体的上端开口处;其中,半导体制冷片的上下侧面对应与散热片和冷端基板贴合。其具有结构简单、控制方便、体积小巧、适应性强、安全可靠的优点,尤其适用小制冷量的需求环境。

基本信息
专利标题 :
一种半导体调温装置
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN113340018A
申请号 :
CN202110485022.1
公开(公告)日 :
2021-09-03
申请日 :
2021-04-30
授权号 :
CN113340018B
授权日 :
2022-05-24
发明人 :
谭双樊志强张永江张楚薇谷筝李敏刘忠明刘照智丁大江古丽娜商李隐
申请人 :
北京航天发射技术研究所
申请人地址 :
北京市丰台区南大红门路1号
代理机构 :
北京天方智力知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人 :
张廷利
优先权 :
CN202110485022.1
主分类号 :
F25B21/04
IPC分类号 :
F25B21/04  
IPC结构图谱
F
F部——机械工程;照明;加热;武器;爆破
F25
制冷或冷却;加热和制冷的联合系统;热泵系统;冰的制造或储存;气体的液化或固化
F25B
制冷机,制冷设备或系统;加热和制冷的联合系统;热泵系统
F25B
制冷机,制冷设备或系统;加热和制冷的联合系统;热泵系统
F25B21/00
应用电或磁效应的制冷机器、装置或系统
F25B21/02
应用珀耳贴效应;应用能斯特—厄廷豪森效应
F25B21/04
可逆的
法律状态
2022-05-24 :
授权
2021-09-21 :
实质审查的生效
IPC(主分类) : F25B 21/04
申请日 : 20210430
2021-09-03 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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