一种多层微带印制天线底部垂直互连结构及焊接方法
授权
摘要
本发明涉及天线馈电互连技术领域,具体涉及一种多层微带印制天线底部垂直互连结构及焊接方法,本发明通过改进了多层微带印制天线底部的垂直互连结构,对电路片、金属载体等的连接结构进行优化设置,在进行同轴垂直互连的同时还可避免同轴连接器连接处的结构干涉,有利于整体结构的一体集成化和小型化,且改进后的结构也避免了性能上的衰减和损耗,即使长期使用也能够保证可靠性。所有的结构连接和电气连接处理采用焊料焊接,实现了结构功能一体化,提高可靠性。采用多步梯度匹配焊接方式,降低装配焊接难度,防止焊料重熔导致的短路或开路。
基本信息
专利标题 :
一种多层微带印制天线底部垂直互连结构及焊接方法
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN113285222A
申请号 :
CN202110557659.7
公开(公告)日 :
2021-08-20
申请日 :
2021-05-21
授权号 :
CN113285222B
授权日 :
2022-05-17
发明人 :
何国华张涛常义宽周凤龙谷岩峰李甫迅徐海洋
申请人 :
中国电子科技集团公司第二十九研究所
申请人地址 :
四川省成都市金牛区营康西路496号
代理机构 :
成都九鼎天元知识产权代理有限公司
代理人 :
吴彦峰
优先权 :
CN202110557659.7
主分类号 :
H01Q1/38
IPC分类号 :
H01Q1/38 H01Q1/48 B23K1/00
法律状态
2022-05-17 :
授权
2021-09-07 :
实质审查的生效
IPC(主分类) : H01Q 1/38
申请日 : 20210521
申请日 : 20210521
2021-08-20 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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